SES 工序是采用碱性蚀刻方法(Alkaline Etching)进行蚀刻的工序,主要用于线路间距小但铜层较厚的 PCB 产品。该工序包括以下子步骤:

  • Film Stripping(显影去膜):去除产品表面已失效的干膜(Film),在图形镀铜和镀锡后显露出膜下的铜层。

  • Etching(蚀刻):使用碱性蚀刻体系腐蚀刚显露的铜层。蚀刻速度快,需蚀刻的铜层厚度较低。

  • Tin Stripping(脱锡):使用蚀刻辅助化学品去除保护性锡层,显露出所需的铜线路。

Filters